正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯与流程技术资料下载

技术编号:13685246

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本非临时申请在美国法典第35卷第119节(a)款下要求2016年8月5日于日本提交的第2016-154628号专利申请的优先权,所述专利申请的全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯。

背景技术

为了满足对于集成电路中较高集成度的目前的要求,需要形成更精细的特征尺寸的图案。最经常将酸催化的化学增幅抗蚀剂组合物用于形成具有0.2μm以下的特征尺寸的抗蚀剂图案。将高能辐射如UV、深UV或电子束...

提示:
1、专利技术是一个研发人员智慧的结晶,在研发的过程中付出了大量的心血,仅供技术学习研究。
2、如您想将该技术商业化,详细技术资料中有研发人员的地址,请您与技术研发人员联系商讨合作事宜。

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