技术编号：13985155
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及光学系统、光掩模检查系统、投射系统、光刻设备以及调节光学系统的方法。背景技术微光刻用于制造微结构化部件，例如集成电路。微光刻工艺在所谓的投射曝光设备中执行，其包括照明装置和投射镜头。通过照明装置照明的光掩模(掩模母板)的图像在此情况下通过投射镜头被投射到涂覆有光敏层(光致抗蚀剂)且布置在投射镜头的像平面中的晶片上，以将光掩模的结构转印到基板的光敏涂层上。投射镜头的反射镜典型地保留在保持框架(力框架)中。反射镜相对于传感器框架被定位(以上至三个平移自由度)和空间取向(以上至三个旋...
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