一种掩膜版及其制备方法、光刻方法与流程技术资料下载

技术编号:14478395

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及光掩膜技术领域,尤其涉及一种掩膜版及其制备方法、光刻方法。背景技术制作显示基板时,经常采用光掩模技术制作显示基板所包含的图案化膜层,这使得在制作显示基板时,需要使用大量的掩膜版实现光掩膜,使得显示基板的制作成本比较高。目前,常见的掩膜版使用石英基板作为基底,在石英基板上按照掩膜图案制作铬膜,从而形成掩膜版;但是这种掩膜版只能制作一种图案化的膜层,没有充分利用石英基板的空间,导致制作显示基板前,需要按照显示基板膜层的图案先完成每种图案对应的掩膜版的制作,才能开始显示基板制作,导致显示基板...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服(仅向企业会员开放)
  • 孙老师:1.机机器人技术 2.机器视觉 3.网络控制系统
  • 杨老师:物理电子学