技术编号：14614463
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及夹具技术领域，具体是涉及一种团簇离子束沉积基片架。背景技术团簇离子束技术(Cluster Ion Beam，CIB)广泛用于工件表面的掺杂、蚀刻、清洁、平滑以及薄膜沉积。团簇离子源通过电子轰击而离子化所产生的气体团簇是包括数个到数千个或更多的分子的聚集体，这些气体团簇的尺寸较大，通常为中性或者携带少量电荷，因此仅作用于极浅的表面区域，而不会产生较深的次表面损伤。采用团簇离子束对工件进行加工时，需要使用合适的基片架以固定工件，由于不同工件的形状和尺寸差别，针对不同的工件需要更换不同的...
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