技术编号：14886497
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳制造技术领域，具体涉及一种利用糖作掩模的微纳加工方法。背景技术掩模作为微纳加工中常用的一种工艺步骤，是样品进行刻蚀、沉积、改性等工艺之前的重要工艺，但在完成刻蚀、沉积、改性等工艺之后，需要去除掩模材料。目前，常用的掩模材料包括金属材料(如Au、Ni、Al等)，金属化合物(如SiO2、Si3N4、TiN等)和光刻胶等，这些常用的掩模材料不仅成本较高，而且大多需要使用专门的化学试剂才能去除，而这些化学试剂存在污染环境、微毒、对人体有害等问题。此外，在选择化学试剂时还要考虑对样品材料是否...
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