技术编号:15457833
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子镀膜技术领域,尤其是一种双离子束金属镀膜自动化设备。背景技术在公知的技术领域,离子束溅射镀膜技术为科学研究与生产提供了薄膜涂覆的新工艺、新技术,为高温合金导体薄膜、磁性薄膜器件、薄膜集成电路、薄膜传感器、光学薄膜、金属异质结构的薄膜制备、材料改性中的薄膜制备等广泛的应用提供了新的技术手段。随着离子束镀膜技术应用领域的不断扩展和延伸,对离子束溅射淀积薄膜设备的要求越来越高。然而现在这类设备,仍以单一功能的离子束溅射镀膜机为主,具备辅助淀积功能的同时不具备共溅射功能,或者具备共溅射功能...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。