技术编号:15457838
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于吸气剂薄膜技术领域,具体是指一种TiZrVHf四元吸气剂薄膜及其制备方法。背景技术吸气材料能够通过物理或化学吸附作用吸收真空器件中的残余活性气体或器件使用过程中释放的活性气体,提高真空系统的极限真空水平,避免真空品质随使用寿命而下降,起到减小活动部件振动阻尼、降低内腔热耗散、避免气体与精密元件反应导致污染或质量变化的作用,达到维持真空设备或密封器件真空品质与理想工作环境的目的。吸气材料主要分为蒸散型(Evaporable Getter)和非蒸散型(Non-evaporable Gett...
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