技术编号:15457847
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积设备,尤其是涉及化学气相沉积设备的喷淋装置。背景技术化学气相沉积(CVD)技术集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、光学、化学、计算机多学科为一体,是一种自动化程度高、价格昂贵、技术集成度高的高端半导体材料、光电子器件制造专用设备。化学气相沉积设备作为化合物半导体材料外延生长的理想方法,具有质量高、稳定性好、重复性好、工艺灵活、能规模化量产等特点,已经成为业界生产半导体光电器件和微波器件的关键核心设备,具有广阔的应用前景和产业化价值。化学气相沉积喷淋装置的反应环境非常...
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