技术编号：16515154
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳加工的技术领域，更具体地，涉及一种平面内纳米结构的精确可控制造方法。背景技术目前，纳米结构的制造方法可以分为“自上而下”方法和“自下而上”方法两类。“自上而下”的纳米结构制造主要采用电子束光刻、深反应离子刻蚀等工艺获得。由于制造纳米掩膜板的尺寸精度限制，只能实现0.6微米的亚微米线宽分辨率而采用电子束光刻也无法实现纳米结构的精准可控制造，并且成本较高；深反应离子刻蚀技术由于其特定材料限制且反应条件不易控制，很难实现所需纳米级尺寸的精度可控制造。最常见“自下而上”的纳米结构制造方法是...
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