技术编号:17917501
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于测量技术领域,具体地,涉及一种测量系统及方法。背景技术地表反照率和辐射能量测量时,传感器安装在高塔上。高塔的反射和辐射对反照率和辐射测量会有影响。但是由于设备和技术的局限,在现有的测量还中不能屏蔽高塔反射对辐射测量的影响,因此这种影响不能定量测量。另外,地表反照率表和辐射计的视场角理论上是180 度,实际视场角在150-170度左右。在实际测量中,由于视场中干扰物的出现,对观测信号会有多少影响无法定量测量。因此亟需开发一种测量系统及方法,屏蔽高塔反射对辐射测量的影响,减小视场中干扰物的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。