技术编号:17917923
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种化合物的制备方法,具体涉及一种取代丙烯酸酯的制备方法。背景技术随着集成电路尺寸不断变小,在光刻过程中对光刻胶的分辨率要求也不断提高。这就促进人们不断对以KrF、ArF或F2准分子激光等短波长光源为主的光刻胶材料进行深入研究,持续开发出线宽更小、分辨率更高、线条粗糙度越小的光刻胶材料。作为目前主流的高端光刻胶材料,ArF光刻胶由于所用光源的限制,原先含苯环的酚醛树脂会大量吸收产生,无法继续使用。通过研究发现,含环状结构的(甲基)丙烯酸酯,如1-烷基环己基(甲基)丙烯酸酯,在193nm...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。