技术编号:17934203
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种X射线产生装置和X射线拍摄系统。背景技术作为工业用的非破坏检查装置之一,公知有X射线拍摄系统。例如,在半导体集成电路基板所代表的电子器件的检查中使用了具备微焦点X射线管的X射线检查装置。X射线管是如下X射线源:通过对阳极与阴极之间施加与X射线能量相应的预定的电位差的高电压,使由该高电压加速后的电子照射靶,从而从靶发出X射线。微焦点X射线管是在阴极侧设置有多个栅格电极的X射线管,具备如下功能:利用施加于这些栅格电极的电压对静电透镜进行控制,从而使电子束的轨道收束。在使用了微焦点X射线...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。