技术编号：25541754
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造设备领域，尤其涉及一种用于半导体温控系统及方法。背景技术半导体温控装置作为半导体集成电路ic制造过程中的重要设备，在集成电路ic制造的刻蚀工艺中要求保持恒定的温度输出用于控制刻蚀设备工艺腔，温度控制精度要求高。半导体温控装置在实际使用中通过制冷、加热环节对温度进行精确控制。目前的半导体温控装置采用传统pid控制算法实现控制目标温度和给定温度一致，在刻蚀工艺设备负载剧烈波动时半导体温控装置的温控精度难以保证。发明内容本发明提供一种用于半导体温控系统及方法，用以解决现有技术中的温...
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