技术编号:3384826
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于通过溅射法成形软磁性薄膜的Fe-Co系或Fe-Ni系靶材。背景技术 近年来,磁记录技术的进步显著,为了驱动器的大容量化,磁记录介质的高记录密度化得到推进。然而,在现在世间广泛使用的面内磁记录方式的磁记录介质中,若想实现高记录密度化,则需记录比特(bit)微细化,要求由记录比特几乎无法记录的高矫顽磁力。因此,作为解决这些问题以使记录密度提高的方法,研究了垂直磁记录方式。所谓垂直磁记录方式,就是相对于垂直磁记录介质的磁性膜中的介质面,使易磁化...
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