技术编号:3416267
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于真空镀膜设备,特别涉及一种通过转换镀膜工件位置实现蒸发镀膜的加工设备。背景技术真空镀膜是指需要在较高真空度下进行镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种。对于蒸发镀膜,一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片(或称工件)表面,通过成膜过程形成薄膜。厚度均匀性和组分均匀性主要取决于工件材料与靶材的晶格匹配程度;工件表面温度;靶材蒸发功率...
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