技术编号:3422009
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种VFD双面真空镀膜设备的挡板机构。(二) 背景技术在VFD真空镀膜生产线的总体设计中,考虑到成木问题,大多采 用了对靶双面镀膜的设备结构,即釆用四块磁控溅射阴极靶,左右两 两相对,可同时对两侧装载的玻璃基片进行镀膜,设备的生产效率提 高-—倍。同时在对耙之间要加入活动挡板(对开挡板),来解决双面镀 膜时阴极靶材料相互沉积污染问题。但是,由于真空系统热传导能力 差、橡胶件动密封易泄漏的特殊性,以及磁控溅射高温丁.艺的具休耍 求,使得-般的挡...
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