镀膜设备的框架式真空室的制作方法技术资料下载

技术编号:3425475

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本发明涉及一种真空室,特别是镀膜设备的真空室。 背景技术业内熟知的PVD (物理汽相沉积)或CVD (化学汽相沉积)镀膜工艺例如是一种在 真空条件下的镀膜方法。PVD是基本上基于物理沉积把材料镀覆在被镀工件上,而CVD则 是基本上基于化学反应的镀膜方法。两种方法的共同点都是在高真空条件下(10_3毫巴至 10_7毫巴)或超高真空条件下(10_7毫巴至10_12毫巴)进行。在本发明的范围内,真空泛 指在一定容积内的流体状态具有低于10—1毫巴的压力。为了产生...

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