技术编号：3426435
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于真空热蒸镀，具体涉及一种用于真空镀膜设备的加 热装置。背景技术真空镀膜技术作为薄膜制备的一种重要手段，在现代微电子技术和微器 件制备中占有特殊重要的地位；这种技术是指在真空环境下利用物理或化学 手段在工件表面沉积一层具有特殊用途膜层的表面处理方法。 一般将真空镀 膜技术分为两大类 一类是物理气相沉积，称为PVD;另一类是化学气相沉 积，称为CVD;其中最简单最常用的就是热蒸发，即利用物质受热后的蒸发 或升华将其转化为气态再沉积在基片表面。与此相应...
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