技术编号:3428458
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于真空镀膜领域,尤其涉及一种大型真空镀膜设备。 背景技术大型真空镀膜设备的容积大(通常达几个立方米),镀膜周期短(通常约30分钟),本底真空高(通常为l(T3~10-2Pa),加上镀膜室内壁和待镀件(尤 其是塑料待镀件)会》支出大量气体(其中,可凝性气体通常占卯%),因此, 该设备通常需配置1万 几万L/s的大型高真空泵。传统真空泵中,能满足上述 要求的高真空泵只有油扩散泵和低温泵。然而,前者能耗高、油蒸汽污染严重, 影响产品质量;后者价格昂贵,加...
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