技术编号:3614549
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于形成抗蚀剂保护膜的聚合物,且更具体地涉及一种用于形成抗蚀剂保护膜的聚合物,其用于液体浸没式光刻技术过程以保护光致抗蚀剂层。本发明还涉及用于形成抗蚀剂保护膜的组合物,以及使用所述组合物形成半导体装置图案的方法。背景技术光刻技术广泛应用于例如半导体装置和液晶装置的多种电子装置的微观结构的制造。随着电子装置小型化,对于微图案抗蚀剂的需要在光刻过程中日益变得更加重要。在 90nm或者更细的微图案的制造中,开发曝光装置和与它相应的抗蚀剂(resis...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。