技术编号:6301655
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于真空设备技术控制领域,特别是涉及一种真空镀膜设备的PLC虚拟设备控制系统。背景技术真空镀膜设备一般由真空获得系统、真空测量系统、运动控制系统、加热系统、气体输送系统、工艺电源系统(包括直流电源、射频电源、中频电源、电子枪电源、离子源等)、 警报系统组成。不同的真空镀膜设备的组成系统具体组成方式都存在差异,在对发生改变的设备部件进行控制时必须对这些差异重新设计控制方式包括硬件和软件,很容易造成设计任务加大,生产成本增加且也浪费时间。实用新型内容...
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