技术编号:6831805
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使抗蚀剂在被处理材料上制作配线图案的抗蚀剂图案的形成方法、使用该抗蚀剂图案的配线图案的形成方法及半导体装置的制造方法、电光学装置及电子机器。背景技术 以往,作为半导体集成电路等的具有微细配线图案的装置的制造方法多采用光刻法。下述专利文献1公开了通过光刻法形成用于用液滴喷出法而配置功能液的液滴的贮格围堰(黑基质)的技术。专利文献1 特开平6-347637号公报在光刻法中,在被处理材料上涂布抗蚀剂材料,形成抗蚀剂层,对该抗蚀剂层进行曝光处理,其后进行...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。