技术编号：6832448
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明系有关于一种可调节输入气体温度的制作设备，特别是一种适用于提升半导体制作合格率、且可调节输入气体温度功能的制作设备。背景技术在现代半导体或液晶显示面板的薄膜晶体管制作中，物理气相沉积、化学气相沉积、干蚀刻等生产机台为不可或缺的制作设备。上述制作设备的共通运作原理为在反应室中利用等离子体进行薄膜沉积或是蚀刻的制作。在进行沉积或是蚀刻的制作时，必须以室温通入如氩(Ar)、水(H2O)、氧、氢与氮等气体，然而反应室内却须以高于室温的温度成膜或进行蚀刻，如此...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。