技术编号：7099963
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，更具体地，涉及能够抑制图案形成时的LWR(线宽波动)、顶部损失(抗蚀剂图案的膜减少)的抗蚀剂图案涂布剂和能够简便且高效地形成更微细的抗蚀剂图案的抗蚀剂图案形成方法。背景技术 在以集成电路元件的制造为代表的微细加工的领域中，为了获得更高的集成度， 最近能够进行0. 10 μ m以下的水平上的微细加工的平版印刷技术成为必需。对于现有的平版印刷工艺，一般使用i射线等近紫外线作为放射线，但对于该近紫外线，据说亚微米数量级水平的微细加工极其困难。因此，为...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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