技术编号:7107873
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明依据2011年9月13日申请之日本专利申请第2011-199622号之优先权,将该日本申请的全部内容作为参考文献引用于文中。本发明涉及被用于对基板进行气体处理的处理装置的排气捕集器。·背景技术在半导体装置与平板显示器(FPD)的制造工序中,成膜、热处理、干蚀刻、清洁等这样的工序都是在真空处理室中,使用规定气体进行的。例如,采用CVD (化学气相沉积)法进行成膜的成膜装置具有反应室,该反应室能将内部排气成真空;基板支承部,该基板支承部被配置于该反应室内...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。