技术编号:7221355
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于形成氧氮化物层的方法和系统5 相关申请交叉引用本申请是以2005年3月30日提交的美国专利申请No. 11/093260为基石出,并要求其优先权。10 本发明一般性地涉及适于制造电子器件的方法和系统以及用于电子器 件的材料。发明内容本发明一般性地提供了一种在衬底上制备氧氮化物膜的方法。将所述 15 衬底的表面暴露于氧自由基以在该表面上形成氧化物膜,所述氧自由基通 过第一处理气体的紫外(UV)辐射诱导解离而形成,所述第一处理气体 包含至少一种包含氧的分子...
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