技术编号:7232101
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。0001本发明涉及一种调节离子注入机中的离子束的方法。背景技术0002本发明预想应用在离子注入机中,该离子注入机可以用在制造半导体器件或其它材料。在这种应用中,半导体晶片通过向晶片体注入期望种类的原子进行更改,进而例如形成传导率变化的区域。0003离子注入机是众所周知的,并通常符合以下的通用设计。离子源一般包括产生等离子体的电弧室。等离子体将包含待注入的期望种类的离子。离子源工作下的条件会影响所产生的等离子体。例如,对影响离子源的操作参数进行变更可以改变等...
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