技术编号：8293530
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，属于光学薄膜制备。背景技术增透膜又称减反射膜，即在光学元件表面上镀光学薄膜，用于减少光学元件表面的反射，增加光线的透过率，从而提高光学元件在工作波长或波段内的性能，因此在光学元件上加镀增透膜是十分必要的。目前，用于增透的镀膜材料主要有二氧化钛、氮化硅、氟化镁、二氧化硅、五氧化二钽、硫化锌、二氧化锆、氧化铈等，对于二氧化硅，由于其成本低廉、折射率适中、表面强度高等优点，成为在玻璃表面制备增透膜的首选材料，如专利CN102674704A、CN102...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。