技术编号：8662059
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀蒸发镀膜，通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面；溅射镀膜用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上；离子镀蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面。这三种形式的真空镀膜技术都需要一种快速冷却装置来辅助真空镀膜工程。真空设备由于在镀膜过程中工件处于密闭的真空环境中，并通过加热器加热到200 — 600°C不等，同时靠近炉壁安装有屏蔽保温板，但产品工艺及性能却丧失了很多...
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