技术编号:8692524
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。随着镀膜技术的不断发展,目前真空镀膜机都是课实现多靶材同时镀膜功能。为使工件表面的镀膜性能更优异,就必须保证靶材表面最先被蒸发出来的材料不被任何污染或者氧化。所以,在真正镀膜之前都要对靶材进行清洗或者叫做预溅射,专利CN 103343320A提供了一种避免开启闭合卡死、传动轴漏气,并能正确对准靶位的简单、可靠、高效的多工位源挡板系统。专利CN 203530420 U提供了一种挡板及磁控溅射设备,能够减少薄膜光伏组件镀背电极过程中的绕镀现象,提高薄膜光伏组件...
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