技术编号:8992252
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。现有的旋转圆柱靶,靶材利用率不高,水冷效果差,消磁快,特别是结构复杂,制造成本高,装配不便。中国实用新型专利CN 201778105U公布了一种新型磁控溅射圆柱靶,中国实用新型专利CN201424502Y公布了一种旋转溅射电弧柱靶装置,中国实用新型专利CN201209166Y公布了一种改良的磁溅射圆柱靶,中国实用新型专利CN202347087U公布了一种旋转式磁控圆柱靶。但在实际使用中,这些靶存在部分零件加工难度大;结构复杂,制造成本升高,装配难度大;部分...
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