技术编号：9212923
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 残余应力即没有外力作用的情况下，存在于构件（如薄膜）的内应力。对薄膜内 应力的研宄，最早是Stoney在1909年从电镀膜开始的。50年代以后，许多人不断对各种薄 膜（包括PVD法获得的薄膜）的内应力进行了研宄。因为实践证明薄膜的耐久性很大程度 上依赖于内应力和附着强度。 薄膜内部的残余压缩应力对于薄膜的机械性能产生很多影响。硬质薄膜的主要制 备方法包括物理气相沉积和化学气相沉积技术。研宄发现，沉积态硬度薄膜中存在较大的 残余应力，而且沿层深分布不均匀；...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。