等离子体处理装置和等离子体处理方法技术资料下载

技术编号:9560826

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提出了一种对靶材施加直流电力来对靶材进行溅射以形成膜的方法(例如参照专利文献1、2)。例如,在专利文献1中公开了一种通过对靶材施加脉冲状的直流电力来对接触孔、通孔、配线槽等的内壁面形成膜的溅射成膜方法。专利文献1日本特开2009-280916号公报专利文献2日本特开2004-266112号公报发明内容_5] 发明要解决的问题然而,在专利文献1、2中,对配置在腔室内的靶材执行溅射,因此难以对不具有适于预先配置在腔室内的靶材的膜使用上述溅射成膜方法。例如,期望...
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