技术编号：9593426
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。半导体晶体管的工艺波动是指在半导体芯片的制造过程中，由于掺杂物质浓度不均匀、光刻过程的不彻底或平坦化过程的不完美，导致了半导体晶体管的各项参数(例如其沟道长度、宽度以及栅氧厚度等)与理想的数值并不相同，而是存在一定的偏差。工艺波动会影响半导体晶体管自身的阈值电压等电学参数，严重时则会导致晶体管错误导通或错误关断。对于半导体芯片中的多个晶体管之间，工艺波动则会导致各晶体管之间的性能存在差异，进而影响了整个半导体芯片的工作性能。因此，对半导体晶体管工艺波动的检...
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