技术编号:9793553
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明具有支撑元件的衬托器 描述发明领域本发明主要涉及具有用于接收将经受“外延生长”的基底的至少一个支撑元件的衬托器。现有技术外延生长和用于获得它的反应器已经已知许多年;它们基于被称作“CVD”(化学气相沉积)的技术。其中它们被使用的是生产电子部件的;用于该应用的工艺和反应器是特定的,因为需要非常高质量的沉积层并且质量要求不断地在上升。—种类型的外延反应器使用被插入反应室中并且支撑将经受外延生长的一个或更多个基底的“衬托器”(参见图1.1A中的参考数字1...
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