技术编号：9921615
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。等离子体反应腔室的温度参数是影响刻蚀、沉积等工艺结果的重要参数之一。为了实现温度的均匀性，通常需要多个温控装置对反应腔室的不同区域进行温控。图1为典型的反应腔室的腔体横向截面示意图。请参阅图1，反应腔室10为矩形腔室，为实现对反应腔室10的不同区域进行温控，在反应腔室10的四个拐角A?D位置处分别设置有温控装置11，每个温控装置11包括加热器111、热电偶112、过温开关113和温控器(图中未示出)等。其中，加热器111用于加热反应腔室10，热电偶112用...
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