技术编号:9965765
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。MOCVD是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。MOCVD是以III族、II族元素的有机化合物和V、VI族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种II1- V族、I1-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。在MOCVD系统中,石墨盘作为衬底的承载平台,在上述反应过程中会有多余的化学反应残留物沉积在石墨盘表面上,假如不加以清除,必然会在新的一炉外延片生长过程中影响对应的温...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。