1)mask[英][mɑ:sk][美][m?sk]掩模版
1.How to Improve the Life of Mask;如何有效提高光刻掩模版的使用寿命
2.The present and the problem of the maskless lithography wereintroduced.研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。
3.It has a large impact both to the mask lifetime and the wafer yield of the semiconductor production.目前晶圆厂主要采用改善掩模版工作环境和存储环境两种方式解决雾状缺陷,通过对这两种方案的对比表明,对掩模版的存储环境进行改善,可有效降低掩模版雾状缺陷的发生频率,提高掩模版的使用寿命,并且整体费用较低,是目前比较可行的方案,掩模版的无S化工艺也是未来发展方向。
英文短句/例句
1.Experimental Research on Photomask Repair System Using Laser Induced Chemical Vapor Deposition(LCVD) Method;激光化学气相沉积光掩模版修复系统的研究
2.The Experiment of Applying Autopaint Technique to Repairing Clear Defect on Photomask应用自动喷涂技术修复掩模版透明缺陷实验
3.Lithography, as used in the manufacture of ICs, is the process of transferring geometic shapes on a mask to the surface of a silicon wafer.光刻技术应用到集成电路制造中，就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。
4.Study of Competition Strategy for Toppan Photomask Company LTD, Shanghai;上海凸版光掩模有限公司竞争战略研究
5.Silicon Nitride Thin Film Deposited by PECVD as a Protecting Layer on Photolithography MaskPECVD淀积Si_3N_4作为光刻掩膜版的保护膜
6.mask programmable integration掩模可编程序集成电路
7.Hard surface photomask substratesGB/T15871-1995硬面光掩模基板
8.electron beam generated mask电子束技术制造的掩模
9.hard-surface in-contact mask表面坚固内接触掩模
10.electron beam mask generator电子束掩模图象发生器
11.mask program read-only memory掩模程序只读存储器
12.photoresist mask pattern光致抗蚀剂掩模图形
13.electron beam mask system电子束掩模制造系统
14.mask programmable memory掩模可编程序存储器
15.trench mask definition槽腐蚀用掩模图象形成
16.electron chrome mask电子束光刻用铬掩模
17.masking clean / etch statio掩模板清洗[腐蚀]台
18.fixed-mask type ROM固定掩模型只读存储器
相关短句/例句
master reticle掩模原版
3)photoblank掩模底版
4)phase mask相位掩模版
1.Impact of phase masks stitching errors on the reflectivity of the chirped fiber Bragg grating;相位掩模版接缝相差对光栅反射峰的影响
5)photomask['f?ut?umɑ:sk]光学掩模版
6)chrome master铬掩模原版
延伸阅读
光学掩模版分子式：CAS号：性质：在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
