专利名称：纳米抗菌砧板及其制法的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种纳米抗菌砧板及其制法，尤指一种于片状砧板本体至少一面形成受切面，该受切面具有适当占厚度，且为高分子材料基材，并且在受切面的内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒，而使砧板具有更佳的抗菌与自洁效果。
背景技术：
目前大多数的惯用砧板，都未设计有抗菌的结构，或是未经过抗菌的处理，由于砧板是供食物刴切之用，残留的食物残渣，很容易在砧板上孳生细菌，习用未设有抗菌结构或抗菌处理的砧板，使用时，所孳生的细菌便会污染食物，而对人体健康造成严重的危害。
为了使砧板具有抗菌功能，目前习用有少数砧板会有抗菌的设计，该习用抗菌设计，是在砧板本体顶面及底面一体贴合上、下抗菌砧板层所组成，该砧板本体是由单一材料的PP或PE塑料材质所押出成型的塑胶板，而具有预定的厚度，该上、下抗菌砧板，是由PP或PE塑料添加适量的抗菌剂所押出成型，并在砧板本体押出成型一并贴合于砧板本体的顶面及底面。然而，该习用砧板所采抗菌剂并非为次微米化或纳米化的机能性氧化物粉粒结构，而是化学药剂或是其他分子结构所组成，因此，其耐磨度、结构强度较弱，而且未被次微米化或纳米化的抗菌剂，其包混在砧板本体内，抗菌效能并无法发挥，其抗菌效果不佳，因而目前市面上鲜有所见。
再者，另一种惯用结构与前述惯用结构大致相同，所不同的只是两者制作方式不同，其抗菌剂都不采用具有机能性且为次微米化或纳米化的粉粒结构，而是化学药剂或是其他分子结构所组成，因此，耐磨度、结构强度较弱，而且未被次微米化或纳米化的抗菌剂，其包混在砧板本体内，抗菌效能并无法发挥，其抗菌效果不佳。
发明内容
本发明的主要目的，在于提供一种可提升砧板的耐磨度与硬度，并可有效改善细菌孳生，而具抗菌及自洁效果的纳米抗菌砧板，其是在片状砧板本体至少一面形成受切面，主要特征是在该受切面具有适当厚度，且为高分子材料基材，并在其内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒。
本发明的有益效果是1.本发明砧板本体因混合有纳米化的氧化物粉粒，不仅具有抗菌效能，且使得砧板本体成型后其表面结构产生变化，具有表面或结构改质作用，使该砧板的相对硬度及耐磨度得以提升。
2.本发明砧板本体因混合有纳米化具抗菌机能性氧化物粉粒，使得细菌无法于砧板的受切面上孳生，故而可提高使用上的安全性及增进饮食卫生。
下面结合附图和具体实施方式
对本发明作进一步说明。
图1为本发明的第一种实施例立体暨局部剖示图；图2为本发明的第一种实施例平面断面示意图；图3为本发明的第二种实施例平面断面示意图；图4为本发明的第三种实施例平面断面示意图；图5为本发明制作的一种实施例的第一步骤示意图；图6是本发明制作的一种实施例的第一步骤示意图；图7是本发明制作的一种实施例的第一步骤示意图；图8是本发明第四种实施例示意图。
具体实施例方式
请参看图1和图2所示，本发明较佳实施例的基本构造，是在片状砧板本体10至少一面形成受切面20、21，主要是该受切面20、21具有适当厚度，且为高分子材料基材，并在其内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒。
请参看图1和图2所示，本发明较佳实施例实施时，其中，具有抗菌机能性的氧化物粉粒为ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2，且该ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2的粒径为次微米。而且以ZnO或TiO2为较佳抗菌效能。
请参看图1和图2所示，本发明较佳实施例实施时，其中，具有抗菌机能性的氧化物粉粒为ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2，且该ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2的粒径为1～100纳米。而且以ZnO或TiO2为较佳抗菌效能。
本发明较佳实施例实施时，其中，具有抗菌机能性的氧化物粉粒为ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2，该等粉粒存于花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体中，而该花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体均匀混合在该高分子材料基材内，且该花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体的粒径为次微米或更小。
本发明较佳实施例实施时，其中，该花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体的粒径为次微米。
请参看图2、图3和图4所示本发明较佳实施例实施时，其中，该片状砧板本体10的上下两面形成受切面20、21，该两个受切面20、21具有适当厚度，且为高分子材料基材，并在其内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒。
请参看图1和2所示，本发明较佳实施例实施时，其中，该片状砧板本体10与受切面20、21为一体。
请参看图1和2所示，本发明较佳实施例实施时，其中，该片状砧板本体10与受切面20为一体，且均为高分子材料基材，并在受切面20内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒，制作方式，是将高分子材料基材热处理，再做表面改质或结构改质，进而使其砧板本体10形成包含有机能性氧化物粉粒的受切面20、21，其中，可将热处理的高分子材料基材以辊轮压延抽拉成长条片状，再做表面改质或结构改良，再将其裁切成砧板形状。
本发明较佳实施例实施时，其中，该高分子材料基材为树脂。
本发明较佳实施例实施时，其中，该高分子材料基材为PU树脂，UP树脂(不饱和聚酯树脂)，苯酚树脂Phenol，丁腈树脂NBR，或SBR树脂，而氧化物为SiO2。
本发明较佳实施例实施时，其中，该高分子材料基材为环氧树脂Epoxy，而氧化物为SiO2，或TiO2。
本发明较佳实施例实施时，其中，该高分子材料基材为塑胶。
本发明较佳实施例实施时，其中，该高分子材料基材为PS，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂ABS，聚氯乙烯PVC，聚对苯二甲酸乙二酯PET，尼龙Nylon，聚对苯二甲酸二丁酯PBT，或TPE(热可塑性橡胶，为丁二烯/苯乙烯共聚合体)，而氧化物为SiO2。
本发明较佳实施例实施时，其中，该高分子材料基材为聚对苯二甲酸乙二酯PET，聚丙烯PP，或尼龙Nylon，而氧化物为ZrO2。
请参看图2和图3所示，本发明较佳实施例实施时，其中，该砧板本体10内具有至少一个中空孔11。
请参看图1和2所示，本发明较佳实施例实施时，其中，该砧板本体10具有数个中空孔11，每一该等中空孔11填置有弹性体30。藉由弹性体30具有吸收刴切力的效能，形成缓冲，不仅增长砧板本体10的寿命，而且可以保护使用者手部，增进使用安全性。其制作的方式，请参看图5至图7，即先将高分子材料基材与氧化物粉粒加热混炼成高分子材料基材母粒，再将高分子基材母粒与高分子材料基材再度加热混炼，并填入已置入弹性体30的模具40的模穴41内，再加热加压而制成于弹性体30外围包覆有受切面20、21的砧板本体10。
本发明制作的第一种方式，是可将高分子材料基材预制成砧板形状，并将其热处理，再对其做纳米化的表面改质或结构改质，并使其表面的受切面含有纳米化的机能性氧化物粉粒。
本发明第二种制作方式，可先将1～15％重量分次微米或纳米的氧化物粉粒(如ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2)与85～99％重量分的高分子材料基材(如PU，UP，Phenol，NBR，或SBR，而氧化物为SiO2)以加热辊压混制成含有氧化物粉粒之高分子材料基材母粒，再取1～15％重量分的该高分子材料基材母粒与85～99％重量分的高分子材料基材再以熔融工程将该高分子材料基材母粒与该高分子材料基材混合成抗菌材，再将该抗菌材披覆或填包在弹性体外围，经加热压延成片状，而制成具次微米或纳米抗菌功能的砧板。
本发明第三种制作方式，为更节省成本，但又具足够抗菌效果，则是取天然的花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体，将3～20％重量分的花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体与占80～97％重量分的高分子材料基材以加热辊压混制成含有次微米粉体的高分子材料基材母粒，再取3～20％重量分的该高分子材料基材母粒与占80～97％重量分的高分子材料基材再以熔融工程将该高分子材料基材母粒与该高分子材料基材混合成抗菌材，再将该抗菌材披覆在弹性体外围，经压延成片状，而制成具次微米或纳米抗菌功能的砧板。
再者，请参看图8所示，本发明又一种较佳实施例，是在本体10至少一周边12形成至少具有两顶点120、121，于使用及清洗后立放晾干时，较利于“沥干清洗后残余的水份”，其“疏水性”与“沥水性”均较传统砧板在清洗后沥干时立面置放时所形成的平行且完全重叠的接触面更佳。因传统砧板于清洗后沥干时立面置放时所形成的平行且完全重叠的接触面，均会形成水分大量的“积滞”，造成沥水、疏水及排水不全的“积湿状态”，形成利于细菌大量滋生、繁衍的环境态样，反不利于“食品卫生安全”的维护。而本发明的本体10周边12设计为至少具有两顶点120、121，在使用及清洗后立放晾干时，其周边12仅以两顶点120、121与其所置放的桌面或工作台面(通常均为平面直线)接触，接触点少，故能提供较佳的通风与疏水、沥干的效果，有利于较快速度地干燥，并较利于后续的清洁、干燥的保持与维护，细菌较不易附着且大量滋生、繁衍，并因而可大大提升并满足“食物处理砧板”在“餐饮卫生安全上的高度要求”。
综上所述，本发明的构造，使该砧板不仅具较佳的抗菌效果，而且其受切面经纳米化表面改质或结构改质，硬度及耐磨度得以提升。
以上所述，为本发明的较佳实施例，并非用以限定本发明的权利范围，凡依据下列申请专利范围所述的内容、特征以及其精神而进行了其他变化的等效实施，均属于本发明的保护范围。
权利要求
1.一种纳米抗菌砧板，是在片状砧板本体至少一面形成受切面，其特征在于该受切面具有适当厚度，且为在其内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒的高分子材料基材。
2.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述具有抗菌机能性的氧化物粉粒为ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2，且该ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2的粒径为次微米。
3.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述具有抗菌机能性的氧化物粉粒为ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2，且该ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2的粒径为1～100纳米。
4.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述具有抗菌机能性的氧化物粉粒为Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2，该等粉粒存于花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体中，而该花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体均匀混合在该高分子材料基材内，且该花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体的粒径为次微米或更小。
5.根据权利要求4所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体的粒径为次微米。
6.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该片状砧板本体上下两面形成受切面，该两个受切面具有适当厚度，且为高分子材料基材，并在其内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒。
7.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该片状砧板本体与受切面为一体。
8.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该片状砧板本体与受切面为一体，且均为高分子材料基材，并在受切面内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒。
9.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该高分子材料基材为树脂。
10.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该高分子材料基材为PU，UP，Phenol，NBR，或SBR，而氧化物为SiO2。
11.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该高分子材料基材为Epoxy，而氧化物为SiO2，或TiO2。
12.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该高分子材料基材为塑胶。
13.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于该高分子材料基材为PS，ABS，PVC，PET，Nylon，PBT，或TPE，而氧化物为SiO2。
14.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于该高分子材料基材为PET，PP，或Nylon，而氧化物为ZrO2。
15.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该砧板本体内具有至少一个中空孔。
16.根据权利要求15所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该砧板本体的该中空孔填置有弹性体。
17.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该砧板本体内具有二个以上的中空孔。
18.根据权利要求17所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该砧板本体的每一该等中空孔填置有弹性体。
19.根据权利要求1所述的纳米抗菌砧板，其特征在于所述该本体至少一周边形成至少具有两顶点的曲边。
20.一种纳米抗菌砧板的制法，其特征在于将高分子材料基材预制成砧板形状，并将其热处理，及做纳米化的表面改质或结构改质，并使其表面的受切面含有纳米化的机能性氧化物粉粒。
21.一种纳米抗菌砧板的制法，其特征在于先将1～15％重量分次微米或纳米的氧化物粉粒(如ZnO，Al2O3，MgO，ZrO2，TiO2或SiO2)与85～99％重量分的高分子材料基材(如PU，UP，Phenol，NBR，或SBR，而氧化物为SiO2)以加热辊压混制成含有氧化物粉粒的高分子材料基材母粒，再取1～15％重量分的该高分子材料基材母粒与85～99％重量分的高分子材料基材再以熔融工程将该高分子材料基材母粒与该高分子材料基材混合成抗菌材，再将该抗菌材披覆或填包在弹性体外围，经加热压延成片状，而制成具次微米或纳米抗菌功能的砧板。
22.一种纳米抗菌砧板的制法，其特征在于将3～20％重量分的花岗石，白云石，麦饭石，蛇纹石或电气石的粉体与占80～97％重量分的高分子材料基材以加热辊压混制成含有次微米粉体的高分子材料基材母粒，再取3～20％重量分的该高分子材料基材母粒与占80～97％重量分的高分子材料基材再以熔融工程将该高分子材料基材母粒与该高分子材料基材混合成抗菌材，再将该抗菌材披覆在弹性体外围，经压延成片状，而制成具次微米或纳米抗菌功能的砧板。
全文摘要
本发明涉及一种纳米抗菌砧板，其是在片状砧板本体至少一面形成受切面，主要特征在于该受切面具有适当厚度，且为高分子材料基材，并在其内部均匀混合有粒径为次微米或更小且具有抗菌机能性的氧化物粉粒，藉以使砧板的受切面具有更佳的抗菌与自洁功能，进而达到有效提高砧板卫生性与安全性的目的。
文档编号A01N25/12GK1836617SQ200510059328
公开日2006年9月27日 申请日期2005年3月25日 优先权日2005年3月25日
发明者蔡志宜 申请人:蔡志宜