专利名称：最新土豆种植技术的制作方法
技术领域：
本发明涉及农业土豆的种植技术问题，尤其是能提高亩产量和土豆质量减少劳动力，对土豆不伤肥、生长快、采收早起到决定性的作用。
背景技术：
目前公知的土豆种植技术有两种:一是挖8至9米深的沟种植。二是打5-6寸深的窝窝种植。1.挖8至9寸深的沟沟种植在我们地区一般是农历的12月份中旬至第二年正月的中旬下种。首先把田或土挖翻，然后再挖8至9寸深的沟沟，行距为1.2尺到1.3尺。退窝为4至5寸种植，一般分为2次施肥，此技术最容易伤肥的是土豆苗出土的时候施肥或肥料跟不上，生长慢质量差，导致产量低。2.打窝窝种植，首先把田或土挖翻，然后打8-9寸的正方形窝窝，下种时间和前面基本一致。窝深5-6寸同样分为2次施肥，已是第二次施肥最容易伤肥和施肥不足，生长慢导致产量低，质量低，劳动力 付出大。
发明内容
一.为了克服现有土豆种植技术花工量大，容易伤肥和施肥不足导致生长慢产量低，质量差的不足。本发明提供一种最新土豆种植技术，该技术不仅能解决现有种植技术中花工量大，容易伤肥和施肥不足，生长慢，质量差，产量低，采收迟的不足，而且能提高亩产量，生长快，质量好，采收早。技术方案:本发明解决其技术问题所有采用的技术方案是:首先把干田或土挖翻挖细，挖平，然后每亩地均匀的施30斤氮磷钾含量为25%复合肥，然后挖2.5-3寸深的沟沟，行距为1.2至1.3尺宽的厢厢，再用氮磷钾为25%的复合肥50斤和含氨基酸的磷肥200斤和草本灰混均匀，先施混好草木灰的肥料在沟沟里面，每格5至6寸一窝，然后把厢厢上二分之一多一点处的泥土复回在土豆种上面，这样原来的厢厢现在就变成了沟沟，原来种土豆的沟沟现在就变成厢厢，然后淋一点清水粪再打除草剂(盖草能)然后盖上薄膜，然后在土豆出苗的时候。哪里出苗哪里就把薄膜打一个孔，这样既能确保水分，又能防止雨水过多等恶劣天气，使其土豆正常生长。有益效果:本发明的有益效果是:沟沟挖得浅，节省劳力半多点。底肥两次施，不伤土豆长快些。厢做沟，沟做厢，抗旱抗淋保丰收。收的时、挖得浅，土豆都在面上捡。收得早，产量高，又保质量好畅销。方法简单。二.具体实施方法:首先把干田或土挖翻挖细，挖平，然后每亩地均匀的施30斤氮磷钾含量为25%复合肥，然后挖2.5-3寸深的沟沟，行距为1.2至1.3尺宽的厢厢，再用氮磷钾为25%的复合肥50斤和含氨基酸的磷肥200斤和草本灰混均匀，先施混好草木灰的肥料在沟沟里面，每格5至6寸一窝，然后把厢厢上二分之一多一点处的泥土复回在土豆种上面，这样原来的厢厢现在就变成了沟沟，原来种土豆的沟沟现在就变成厢厢，然后淋一点清水粪再打除草剂(盖草能)然后盖上薄膜，然后在土豆出苗的时候。哪里出苗哪里就把薄膜打一个孔，这样既能 确保水分，又能防止雨水过多等恶劣天气，使其土豆正常生长。
权利要求
1.一种最新土豆种植技术是:干田或土先挖翻，挖细，挖平，然后每亩田满块均匀的施含氮磷钾25%的复合肥30斤，然后挖I。
2.2到1.3尺宽，沟深2.5-3寸深的厢厢，然后每亩沟内每隔5-6寸施含氮磷钾25%的复合肥50斤和含氨基酸的磷肥200斤和草木灰混匀施用，然后沟内没有施肥的当中种植一窝土豆，然后将厢厢中二分之一处多一点处的泥土复回沟内，盖好土豆种子，这样就原来的沟沟变成了现在的厢厢，原来的厢厢就变成了现在的沟沟，然后淋一点清水粪，打好除草剂，盖上薄膜，土豆出苗的时候在出苗处打个孔，按顺序操作而成，其特征是，底肥做两次施。
3.根据权利要求1所述的最新土豆种植技术。
4.其特征是:干田或土先挖翻，挖细，挖平，然后第一次满块施含氮磷钾25%的复合肥30斤。
5.根据权利要求1所述的最新土豆种植技术，其特征是沟深为2.5-3寸深，厢宽为1.2-1.3尺宽的厢厢。
6.根据权利要求1所述的最新土豆种植技术，其特征是:沟内先按5-6寸的窝距施肥，再用土豆种植在没有施肥的当中。
7.根据权利要求1所述的最新土豆种植技术，其特征是:土豆种好之后，将厢厢的二分之一多一点处的泥土复回沟内，盖好土 豆种子。
8.根据权利要求1所述的最新土豆种植技术，其特征是:盖好土豆之后，淋一点清水粪，打好除草剂，盖上薄膜，土豆出苗的时候在出苗处打个孔。
全文摘要
一种能使土豆不伤肥长得快，产量高，质量好，花工少的最新土豆种植技术。它是经过干田或土先挖翻，挖细，挖平，然后每亩施含氮磷钾25%的复合肥30斤施均匀。然后挖1.2至1.3尺宽，沟深2.5-3寸深的厢厢，然后每亩沟内每隔5-6寸施一堆含氮磷钾25%复合肥50斤和含氨基酸的200斤磷肥与草木灰混匀，然后沟内没有施肥的当中种植一窝土豆，然后将厢厢 多一点处的泥土复回沟内，盖好土豆种子，这样原来的沟沟变成了现在的厢厢，原来的厢厢变成了现在的沟沟，然后淋一点清水粪，然后打好除草剂，然后盖上薄膜就行了，土豆出苗的时候在出苗处打个孔。按顺序操作而成。
文档编号A01G1/00GK103181276SQ201110450120
公开日2013年7月3日 申请日期2011年12月29日 优先权日2011年12月29日
发明者倪明源 申请人:倪明源