专利名称：保湿透气花盆的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种花盆。
背景技术：
花盆供花卉在盆内生长之用，花卉的根系靠吸收盆土中的营养和水分促进枝叶的生长，花盆由于容积小提供的水分有限，需要经常浇水，但是水分过多又会使花卉的根系烂掉，因此，现有的花盆底部都设有排水孔，主要是利于充分排水和透气。但是，有的花卉，特别是一些阴生花卉，喜盆土湿润，但盆土又不能积水。现有的花盆排水过快反而不适合阴生花卉的生长特点，而且需要频繁的浇水，不但浪费水资源还增加了浇水的劳动量，有时忘记浇水，短时间内就会造成花卉的死亡。
发明内容本实用新型的目的是提供一种既透气又保湿的花盆。本实用新型的技术方案是包括盆体和排水孔，所述盆体的底部设有凹槽，所述排水孔所处的平面高于凹槽的底部。本实用新型的有益效果是由于盆体底部设有凹槽，因此，能留存少量水，以调节土壤湿度，满足阴生花卉的需要，还能减少浇水频率。同时，排水孔所处的平面高于凹槽的底部，因此，能同时保证盆土的正常透气和排水。本实用新型解决了现有花盆存在的透气和保湿相互矛盾的问题。
图1是本实用新型实施例的结构剖视图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明，但不构成对本实用新型的任何限制。图1所示，本实用新型包括盆体1和排水孔，所述盆体1的底部设有环形凹槽 2，该凹槽2设置在花盆底部的最外边，这样放置花盆时，花盆底部与地面接触面积较大，花盆的稳定性高。排水孔所处的平面高于凹槽2的底部，这样保证存水和透气互不影响。
权利要求1. 一种保湿透气花盆，包括盆体(1)和排水孔，其特征在于所述盆体(1)的底部设有凹槽(2)，所述排水孔所处的平面高于凹槽(2)的底部。
专利摘要本实用新型公开了一种既透气又保湿的花盆，具体为一种保湿透气花盆。本实用新型包括盆体和排水孔，所述盆体的底部设有凹槽，所述排水孔所处的平面高于凹槽的底部。由于盆体底部设有凹槽，因此，能留存少量水，以调节土壤湿度，满足阴生花卉的需要，还能减少浇水频率。同时，排水孔所处的平面高于凹槽的底部，因此，能同时保证盆土的正常透气和排水。本实用新型解决了现有花盆存在的透气和保湿相互矛盾的问题。
文档编号A01G9/02GK202121973SQ2011202035
公开日2012年1月25日 申请日期2011年6月16日 优先权日2011年6月16日
发明者胡正平 申请人:胡正平