专利名称：浅液流与深液流无土栽培装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种浅液流与深液流无土栽培装置。
背景技术：
无土栽培(soilless culture)是指不用土壤,用其它东西培养植物的方法，目前，常采用水培植方法，水培植是种植物根系直接与营养液接触、不用基质的栽培方法，这种栽培方法往往结构较复杂，安装和使用过程极为不方便，且只能对单一作物进行栽培，只能满足单一作物的生长需要，而且容易造成根部缺氧等现象，影响根系呼吸，严重时还会造成烂根、死亡等问题
实用新型内容
本实用新型的目的即在于克服现有技术的不足，提供一种可根据具体情况选用不同高度、不同营养液层深度的种植槽，结构简单，安装和使用方便，满足大多数作物生长需要，在停电期间亦可正常使用，解决了根系供氧问题，确保作物对水分和养分的需求，确保作物根系自由呼吸的浅液流与深液流无土栽培装置。本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现浅液流与深液流无土栽培装置，它包括种植槽、贮液池和营养液循环流动装置，营养液循环流动装置包括水泵、进液管和回液管，水泵的进水口通过管路与贮液池连接，水泵的出水口通过进液管与种植槽的供水口连接，种植槽的出水口与回液管连接，回液管经过滤池与贮液池连接。所述的进液管与种植槽之间的管道中设有手动阀；所述的回液管与种植槽之间的管路中设有液面调节栓。所述的种植槽包括高架型种植槽、低架型种植槽；所述的种植槽包括浅液流种植槽、深液流种植槽；所述的浅液流种植槽的营养液层深度为0. 5 1cm，作物根系只有一部分浸泡在这一浅层营养液中，而绝大部分的根系是暴露在种植槽的空气里；所述的深液流种植槽的营养液层深度为5 10cm，作物部分根系浸泡在营养液中。浅液流与深液流无土栽培装置，它还包括加氧装置，所述的加氧装置与贮液池或进液管连接。本实用新型的有益效果是本实用新型提供一种浅液流与深液流无土栽培装置，可根据具体情况，选用不同高度、不同营养液层深度的种植槽，其营养液能循环使用，具有节能，结构简单，安装和使用方便，降低成本，易于在生产中推广应用，满足大多数作物生长需要，在停电期间亦可正常使用，解决了根系供氧问题，满足作物对水分和养分的需求，确保作物根系自由呼吸等优点。
图I为本实用新型的结构示意图；图2为本实用新型低架型种植槽结构示意图；[0011]图3为本实用新型高架型种植槽结构示意图；图中，I-种植槽，2-贮液池，3-营养液循环流动装置，4-水泵，5-进液管，6-回液管，7-过滤池，8-手动阀，9-液面调节栓。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进一步的描述，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。如图I所示，浅液流与深液流无土栽培装置，它包括种植槽I、贮液池2和营养液循环流动装置3，营养液循环流动装置3包括水泵4、进液管5和回液管6，水泵4的进水口通过管路与贮液池2连接，水泵4的出水口通过进液管5与种植槽I的供水口连接，种植槽I的出水口与回液管6连接，回液管6经过滤池7与贮液池2连接，所述的进液管5与种植槽I之间的管道中设有手动阀8 ;所述的回液管6与种植槽I之间的管路中设有液面调节栓9，所述的液面调节栓9采用的是在种植槽外加一个外套，外套开孔，通过旋转外套，改变 角度，从而调节液面位置。所述的种植槽I包括浅液流种植槽、深液流种植槽；所述的浅液流种植槽的营养液层深度为0. 5 1cm，营养液不断循环流经作物根系，作物根系只有一部分浸泡在这一浅层营养液中，而绝大部分的根系是暴露在种植槽的空气里，这样由浅层的营养液层流经根系时可以较好地解决根系的供氧问题，也能够保证作物对水分和养分的需求；所述的深液流种植槽的营养液层深度为5 10cm，作物部分根系浸泡在营养液中，其根系的通气通过向营养液中加氧来解决，其优点在于停电期间，种植槽内存储的营养及水分能在一定时间内维持植物的生长需要，举例如下深液流无土栽培装置的营养液池长5. 2m左右，宽I. Im左右，高I. 2m左右；深液流无土栽培装置的种植槽长5 6m，宽0. 6m左右，高0. Im左右。浅液流与深液流无土栽培装置，它还包括加氧装置，所述的加氧装置与贮液池2或进液管5连接。种植槽主要由PC管做成，使设施的结构更为简单和轻便，安装和使用更为便捷，大大降低了设施的基本建设投资，更易于生产中推广应用；如图2、图3所示，所述的种植槽I包括高架型种植槽、低架型种植槽两种(I)低架型主要用于生产番茄、黄瓜、茄子等大株型作物，举例如下浅液流无土栽培装置种植槽的槽长25m左右，槽底宽25 30cm，槽高20 25cm，槽的坡降为1:75 1:100，槽中营养液以浅层的形式流动，营养液的流量达到2 4L/min时，可满足大多数作物生长需求；(2)高架型主要用于生产草莓、沙拉莴苣、菠菜等矮小型作物，适当增加种植密度才能保证小株型作物有较高的单产，举例如下浅液流无土栽培装置种植槽的坡降为1:80左右，槽长一般为20m左右，为了促进跟的发育，槽沟要与根的增长相适应，要适当加大、力口深，否则随着根系的增大，会阻塞营养液流动。贮液池为了保证足够的营养液供给，必须配置贮液装置，有的建池，有的直接用罐。其位置一般设在地平面以下，这样做一是有利于营养液从种植槽流回到贮液池(罐)里，二是有利于保持营养液温度，减少气温对液温的影响。本实用新型的工作过程营养液由贮液池2经水泵4注入种植槽1，种植槽I内的 营养液通过液面调节栓9经回液管6进入过滤池7，之后又回到贮液池2，从而达到营养液循环使用。
权利要求1.浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于它包括种植槽(I)、贮液池(2)和营养液循环流动装置(3)，营养液循环流动装置(3)包括水泵(4)、进液管(5)和回液管(6)，水泵(4)的进水口通过管路与贮液池(2)连接，水泵(4)的出水口通过进液管(5)与种植槽(I)的供水口连接，种植槽(I)的出水口与回液管(6 )连接，回液管(6 )经过滤池(7 )与贮液池(2)连接。
2.根据权利要求I所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于所述的进液管(5 )与种植槽(I)之间的管道中设有手动阀(8 )。
3.根据权利要求I所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于所述的回液管 6 )与种植槽(I)之间的管路中设有液面调节栓(9 )。
4.根据权利要求I所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于所述的种植槽(I)包括高架型种植槽、低架型种植槽。
5.根据权利要求I所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于所述的种植槽(I)包括浅液流种植槽、深液流种植槽。
6.根据权利要求5所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于所述的浅液流种植槽的营养液层深度为0. 5 1cm，作物根系只有一部分浸泡在这一浅层营养液中，而绝大部分的根系是暴露在种植槽的空气里。
7.根据权利要求5所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于所述的深液流种植槽的营养液层深度为5 10cm，作物部分根系浸泡在营养液中。
8.根据权利要求I所述的浅液流与深液流无土栽培装置，其特征在于它还包括加氧装置，所述的加氧装置与贮液池(2 )或进液管(5 )连接。
专利摘要本实用新型公开了一种浅液流与深液流无土栽培装置，它包括种植槽(1)、贮液池(2)和营养液循环流动装置(3)，营养液循环流动装置(3)包括水泵(4)、进液管(5)和回液管(6)，水泵(4)的进水口通过管路与贮液池(2)连接，水泵(4)的出水口通过进液管(5)与种植槽(1)的供水口连接，种植槽(1)的出水口与回液管(6)连接，回液管(6)经过滤池(7)与贮液池(2)连接。本实用新型提供一种浅液流与深液流无土栽培装置，根据具体情况选用不同高度、不同营养液层深度的种植槽，具有结构简单，安装和使用方便，满足大多数作物生长需要，在停电期间亦可正常使用，解决了根系供氧问题，确保作物对水分和养分的需求等优点。
文档编号A01G31/06GK202456022SQ20122001540
公开日2012年10月3日 申请日期2012年1月13日 优先权日2012年1月13日
发明者余健洲, 杨柳, 欧成国 申请人:成都诚欣特自动化系统有限公司