本发明属于建筑领域，具体涉及一种完全由天然植物构成的天然氧吧茶棚及其构建方法。
背景技术：
环境污染会给生态系统造成很大的破坏和影响，如沙漠化、森林破坏，也会给生态系统和人类社会造成间接的危害，有时这种间接的环境效应的危害比当时造成的直接危害更大，也更难消除。例如，温室效应、酸雨、和臭氧层破坏就是由大气污染衍生出的环境效应。当然，环境污染的最直接、最容易被人所感受的后果是使人类环境的质量下降，影响人类的生活质量、身体健康和生产活动。例如城市的空气污染造成空气污浊，人们的发病率上升等等。
饮茶不但是传统饮食文化，同时，由于茶中含有多种抗氧化物质与抗氧化营养素，对于消除自由基有一定的效果。因此喝茶也有助防老，具养生保健功能，每天喝三两杯茶可起到防老的作用。茶叶中含有多种维生素和氨基酸，喝茶对于清油解腻，增强神经兴奋以及消食利尿也具有一定的作用。因此，工作之余，很多人喜欢在喝茶，享受喝茶的轻松惬意。人们喝茶时，大都喜欢选择户外的茶棚，相比室内，茶棚透气性更好，更加接近大自然，但现有的茶棚遮阳效果差，太阳大时，茶棚里还是很热。
技术实现要素：
本发明目的是提供一种天然氧吧茶棚，解决现有的茶棚遮阳效果差的问题。
本发明的技术方案为：一种完全由天然植物构成的天然氧吧茶棚，包括茶棚主体，所述茶棚主体由藤蔓植物构成，茶棚主体下方的地面上铺设有草坪，所述茶棚主体由外层的木香藤和内层的常春藤构成。
进一步地，茶棚主体下方的地下挖设填埋池，填埋池上方设置盖板。
进一步地，包括如下步骤：
(1)在待建茶棚的地面上种植木香藤，待木香藤成活生长后，采用木质或竹质材料搭建茶棚主体的外轮廓架体，使木香藤覆盖在外轮廓架体上生长，待木香藤覆盖掉外轮廓架体后，去掉外轮廓架体，形成外层的木香藤，
(2)在待建茶棚的地面上种植常春藤，并使其依附在木香藤的内层生长，待常春藤完全覆盖木香藤后，形成内层的常春藤。
(3)在茶棚主体的下方的地面上种植草坪。
进一步地，还包括在茶棚主体下方的地下挖设填埋池，首先在地下挖土坑，然后在土坑上设置盖板，盖板上表面具有向下的凹槽，凹槽内填充土壤，土壤内种植草坪。
本发明与现有技术相比具有如下优点：
1、本发明采用木香藤和常春藤两种植物自然生长后作为茶棚主体，木香藤为蔷薇科蔷薇属半常绿攀援灌木，其枝条具有一定的刚度及攀爬性，可以很好的形成茶棚主体的骨架，形成支撑及供常春藤的攀爬。
2、木香藤和常春藤可以很好的形成互补，常春藤在温度超过35℃时叶片发黄，生长停止。因此，在夏季炎热时应进行遮荫，或放在疏萌处，避免烈日暴晒。耐寒性较强，冬天需要照射阳光，一年四季都能保持常绿。而木香藤则喜阳光，冬天落叶，因此，木香藤设置在外层，常春藤设置在内层，可以保证两种植物在炎热的夏天都能健康的生长，冬天木香藤落叶后又能使内层的常春藤接收到充足的光照。
3、茶渣是一种高含水的有机物，现有技术中一般都是直接倒入垃圾桶，容易发臭、影响环境，还造成资源浪费，本发明中，喝茶后的茶渣直接倒入填埋池，茶渣为天然的好肥料，可以为木香藤及常春藤的生长提供充足的养分。
4、本发明的茶棚整体均为天然生长植物构成，绿色、环保，能净化空气，形成天然的氧吧，人们在里面喝茶时，能完全融入到大自然的环境。
具体实施方式
实施例1
一种完全由天然植物构成的天然氧吧茶棚，包括茶棚主体，所述茶棚主体由藤蔓植物构成，茶棚主体下方的地面上铺设有草坪，所述茶棚主体由外层的木香藤和内层的常春藤构成。
(1)在待建茶棚的地面上种植木香藤，待木香藤成活生长后，采用木质或竹质材料搭建茶棚主体的外轮廓架体，使木香藤覆盖在外轮廓架体上生长，待木香藤覆盖掉外轮廓架体后，去掉外轮廓架体，形成外层的木香藤，
(2)在待建茶棚的地面上种植常春藤，并使其依附在木香藤的内层生长，待常春藤完全覆盖木香藤后，形成内层的常春藤。
(3)在茶棚主体的下方的地面上种植草坪。
实施例2
一种完全由天然植物构成的天然氧吧茶棚，包括茶棚主体，所述茶棚主体由藤蔓植物构成，茶棚主体下方的地面上铺设有草坪，所述茶棚主体由外层的木香藤和内层的常春藤构成。茶棚主体下方的地下挖设填埋池，填埋池上方设置盖板。
(1)在待建茶棚的地面上种植木香藤，待木香藤成活生长后，采用木质或竹质材料搭建茶棚主体的外轮廓架体，使木香藤覆盖在外轮廓架体上生长，待木香藤覆盖掉外轮廓架体后，去掉外轮廓架体，形成外层的木香藤，
(2)在待建茶棚的地面上种植常春藤，并使其依附在木香藤的内层生长，待常春藤完全覆盖木香藤后，形成内层的常春藤。
(3)在茶棚主体的下方的地面上种植草坪。
(4)在茶棚主体下方的地下挖设填埋池，首先在地下挖土坑，然后在土坑上设置盖板，盖板上表面具有向下的凹槽，凹槽内填充土壤，土壤内种植草坪。
以上所述实施例仅表达了本申请的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本申请保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请技术方案构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。