本发明涉及眼科医疗的技术领域，特别是指一种巩膜组织的保存方法。
背景技术：
传统巩膜材料在保存期间，主要按照角膜材料的保存方法进行保存，具体做法是：去除结膜、眼外肌、虹膜、睫状体、脉络膜和视神经等眼组织后长期冰冻脱水，这种保存方法流程复杂，操作困难，且一定程度上限制了活性组织的临床应用。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种制作流程简单、可靠且易于实施的巩膜组织的保存方法。
为了达成上述目的，本发明的解决方案是：
一种巩膜组织的保存方法，其是将反复漂洗的无病毒携带新鲜巩膜和结膜组织经消毒后空气暴露培养；所述的空气暴露培养是将结膜覆盖在巩膜组织上，然后置于可透水的铺膜上，铺膜下为可提供组织营养成分的保存液或细胞培养基。
采用上述方案后，本发明巩膜组织的保存方法能使保存结膜和巩膜组织处于人工湿房环境中，与正常生理眼球在人体内的表面存活环境类似，巩膜细胞结构破坏极少，结构保存完整。相较于现有的巩膜组织保存方法，本发明制作流程简单、可靠且易于实施，成本相对较低，易于推广且运输方便，本发明能为组织工程结膜和巩膜产业化提供重要的技术支持。
进一步，所述的消毒是将新鲜巩膜和结膜用含抗菌素的磷酸盐缓冲液浸泡及冲洗，浸泡时间为5-10min，pbs冲洗3次×5min。
进一步，所述的抗菌素包括5万u/l青霉素，8万u/l妥布霉素，100mg/l链霉素中的任意一种或任意组合。
进一步，所述的铺膜包括硝酸纤维素膜、乙酸纤维素膜、微孔滤膜中的任意一种。
进一步，所述的铺膜孔径为：0.1μm、0.22μm、0.45μm、0.65μm、1.0μm、3.0μm、5.0μm中的任意一种，铺膜厚度为：100-140μm。如此，能使结膜和巩膜组织充分展平，保持一定的拉伸度同时还可以与营养液充分接触。
进一步，所述的保存液包括optisol中期保存液、dmem培养基、shem培养基、血清或多种细胞因子中的一种或多种的组合。
进一步，所述的空气暴露培养条件为0-37℃，氧气浓度0-20％。
具体实施方式
为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例来对本发明进行详细阐述。
一种巩膜组织的保存方法，其是将反复漂洗的无病毒携带新鲜巩膜和结膜组织经消毒后空气暴露保存，所述的空气暴露培养是将结膜覆盖在巩膜组织上，然后置于可透水的铺膜上，铺膜下为可提供组织营养成分的保存液或细胞培养基。采用本发明的巩膜组织保存方法能使保存的结膜和巩膜组织处于人工湿房环境中，与正常生理眼球在人体内的表面存活环境类似，巩膜细胞结构破坏极少。
所述的消毒是将新鲜巩膜和结膜用含抗菌素的磷酸盐缓冲液浸泡后，浸泡时间为5-10min，pbs冲洗3次×5min。所述的抗菌素包括5万u/l青霉素，8万u/l妥布霉素，100mg/l链霉素中一种或两种以上的组合。
所述的铺膜包括硝酸纤维素膜，乙酸纤维素膜，微孔滤膜或其它透水材料中的一种，可选孔径：0.1μm、0.22μm、0.45μm、0.65μm、1.0μm、3.0μm、5.0μm。外观：白色。厚度：100-140μm。采用本技术能使结膜和巩膜组织充分展平，保持一定的拉伸度同时还可以与营养液充分接触。
所述的保存液包括optisol中期保存液、dmem培养基、shem培养基、血清或多种细胞因子中的一种或多种的组合。配方见后。
所述的空气暴露培养条件为0-37℃，氧气浓度0-20％。
上述实施例并非限定本发明的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。
1.一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：将反复漂洗的无病毒携带新鲜巩膜和结膜组织经消毒后空气暴露培养；所述的空气暴露培养是将结膜覆盖在巩膜组织上，然后置于可透水的铺膜上，铺膜下为可提供组织营养成分的保存液或细胞培养基。
2.如权利要求1所述的一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：所述的消毒是将新鲜巩膜和结膜用含抗菌素的磷酸盐缓冲液浸泡及冲洗，浸泡时间为5-10min，磷酸盐缓冲液冲洗3次×5min。
3.如权利要求2所述的一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：所述的抗菌素包括5万u/l青霉素，8万u/l妥布霉素，100mg/l链霉素中的任意一种或任意组合。
4.如权利要求1所述的一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：所述的铺膜包括硝酸纤维素膜、乙酸纤维素膜、微孔滤膜中的任意一种。
5.如权利要求1或4所述的一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：所述的铺膜孔径为：0.1μm、0.22μm、0.45μm、0.65μm、1.0μm、3.0μm、5.0μm中的任意一种，铺膜厚度为：100-140μm。
6.如权利要求1所述的一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：所述的保存液包括optisol中期保存液、dmem培养基、shem培养基、血清或多种细胞因子中的一种或多种的组合。
7.如权利要求1所述的一种巩膜组织的保存方法，其特征在于：所述的空气暴露培养条件为0-37℃，氧气浓度0-20％。