一种易生物降解地膜的制作方法

本实用新型涉及农用地膜领域，具体涉及一种易生物降解地膜。

背景技术：

地膜即地面覆盖薄膜，用于地面覆盖，以提高土壤温度，保持土壤水分，维持土壤结构，防止害虫侵袭作物和某些微生物引起的病害等功能。传统的普通塑料地膜以聚乙烯或聚氯乙烯为主，其稳定性极高，降解时间长达200-300年。随着这种不可降解地膜的大量一次性使用，造成大量残膜残留在地表和土壤中，难以降解，对土壤造成了污染和损害，危害生态环境。同时现有的可降解塑料地膜的功能性比较单一，不能有效促进植物的生长。

技术实现要素：

本实用新型的目的就是针对上述之不足，而提供一种易生物降解地膜。

本实用新型它包括自上而下依次设置的第一降解膜层、填料层、第二降解膜层、光敏层以及驱虫层；

所述第一降解膜层为聚乳酸薄膜层；所述填料层为纳米碳酸钙、纳米二氧化硅、纳米滑石粉、纳米氧化铝涂层中任意一种；所述第二降解膜层为ppc/pbat共混薄膜层；所述光敏层为聚乙烯醇薄膜层，其内填充有纳米级硬脂酸锌或硬脂酸钠颗粒物；所述驱虫层为大蒜素涂层。

所述第一降解膜层和第二降解膜层的厚度比为1:1.2-1.6。

所述第一降解膜层的厚度为30-60μm。

所述填料层的厚度为5-10μm。

所述光敏层的厚度为8-15μm。

所述驱虫层的厚度为6-12μm。

本实用新型优点是：填料层隔离部分氧气、水分等，使得第一降解膜层和第二降解膜层一层接一层的进行降解，而不会出现过快的降解。大蒜素涂层作为驱虫层能在与地面接触期间起到杀菌消毒作用，同时将虫类驱离，保护幼苗生长。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如附图所示，本实用新型它包括自上而下依次设置的第一降解膜层1、填料层2、第二降解膜层3、光敏层4以及驱虫层5；

所述第一降解膜层1为聚乳酸薄膜层；所述填料层2为纳米碳酸钙、纳米二氧化硅、纳米滑石粉、纳米氧化铝涂层中任意一种；所述第二降解膜层3为ppc/pbat共混薄膜层；所述光敏层4为聚乙烯醇薄膜层，其内填充有纳米级硬脂酸锌或硬脂酸钠颗粒物；所述驱虫层5为大蒜素涂层。

所述第一降解膜层1和第二降解膜层3的厚度比为1:1.2-1.6。

所述第一降解膜层1的厚度为30-60μm。

所述填料层2的厚度为5-10μm。

所述光敏层4的厚度为8-15μm。

所述驱虫层5的厚度为6-12μm。

所述填料层2和驱虫层5均通过环保胶黏剂进行涂覆。所述环保胶黏剂可为聚酯热熔胶或天然高分子材料热熔胶等。

工作原理：聚乳酸薄膜层位于最外层，能充当保温层的作用，其作为第一降解膜层会在外界环境中先发生降解。填料层能在起到增韧补强作用的同时，还能作为阻隔层存在。填料层隔离部分氧气、水分等，使得第一降解膜层和第二降解膜层一层接一层的进行降解，而不会出现过快的降解。光敏层利用其内的纳米级硬脂酸锌或硬脂酸钠颗粒物有效防止降解不充分。大蒜素涂层作为驱虫层能在与地面接触期间起到杀菌消毒作用，同时将虫类驱离，保护幼苗生长。

技术特征：

1.一种易生物降解地膜，它包括自上而下依次设置的第一降解膜层(1)、填料层(2)、第二降解膜层(3)、光敏层(4)以及驱虫层(5)；

所述第一降解膜层(1)为聚乳酸薄膜层；所述填料层(2)为纳米碳酸钙、纳米二氧化硅、纳米滑石粉、纳米氧化铝涂层中任意一种；所述第二降解膜层(3)为ppc/pbat共混薄膜层；所述光敏层(4)为聚乙烯醇薄膜层，其内填充有纳米级硬脂酸锌或硬脂酸钠颗粒物；所述驱虫层(5)为大蒜素涂层。

2.根据权利要求1所述的一种易生物降解地膜，其特征在于所述第一降解膜层(1)和第二降解膜层(3)的厚度比为1:1.2-1.6。

3.根据权利要求1所述的一种易生物降解地膜，其特征在于所述第一降解膜层(1)的厚度为30-60μm。

4.根据权利要求1所述的一种易生物降解地膜，其特征在于所述填料层(2)的厚度为5-10μm。

5.根据权利要求1所述的一种易生物降解地膜，其特征在于所述光敏层(4)的厚度为8-15μm。

6.根据权利要求1所述的一种易生物降解地膜，其特征在于所述驱虫层(5)的厚度为6-12μm。

技术总结
一种易生物降解地膜，它包括自上而下依次设置的第一降解膜层、填料层、第二降解膜层、光敏层以及驱虫层；所述第一降解膜层为聚乳酸薄膜层；所述填料层为纳米碳酸钙、纳米二氧化硅、纳米滑石粉、纳米氧化铝涂层中任意一种；所述第二降解膜层为PPC/PBAT共混薄膜层；所述光敏层为聚乙烯醇薄膜层，其内填充有纳米级硬脂酸锌或硬脂酸钠颗粒物；所述驱虫层为大蒜素涂层。本实用新型优点是：填料层隔离部分氧气、水分等，使得第一降解膜层和第二降解膜层一层接一层的进行降解，而不会出现过快的降解。大蒜素涂层作为驱虫层能在与地面接触期间起到杀菌消毒作用，同时将虫类驱离，保护幼苗生长。

技术研发人员：朱润云;谢招旺;仲志宏;沈丽芬;王正雄;谢永磊;刘坤;曾舒翀
受保护的技术使用者：湖北光合生物科技有限公司
技术研发日：2020.11.17
技术公布日：2021.06.29