气溶胶产生装置的制作方法

本技术涉及电子雾化，尤其涉及一种气溶胶产生装置。

背景技术：

1、气溶胶产生装置包括雾化组件和电源组件，电源组件用于给雾化组件提供电能，雾化组件用于对烟液进雾化产生气溶胶。并且气溶胶产生装置所产生的烟雾中的有害成分要远远少于传统的燃烧型卷烟，使用气溶胶产生装置能够极大的避免香烟对人体的不利影响，成为一种更健康的抽烟方式。

2、现有技术中，硅麦往往直接安装在控制板上，控制板直接安装在供电组件的内部，硅麦与供电组件内的间隙相连通，在该供电组件的配合间隙较大的情况下，容易出现硅麦不易触发或者闭合不严实的现象，对气溶胶产生装置的运输或使用造成一定的影响。

技术实现思路

1、本实用新型的主要目的是提供一种气溶胶产生装置，旨在解决现有技术中气溶胶产生装置在运输过程中容易出现误触发的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提出的一种气溶胶产生装置，所述气溶胶产生装置包括底盖、控制板、硅麦以及密封件，所述控制板与所述底盖固定相连，所述硅麦安装在所述控制板上，所述密封件安装在所述控制板与所述底盖之间，所述硅麦面向所述密封件设置，其中，所述密封件与所述控制板紧密抵接，所述密封件开设有密封空腔，所述硅麦收纳与所述密封空腔内，所述底盖上开设有穿孔，所述穿孔与所述密封空腔相连通。

3、可选地，所述硅麦与所述密封空腔的侧壁之间的距离在1mm-5mm的范围内。

4、可选地，所述气溶胶产生装置还包括充电件，所述充电件安装在所述穿孔内。

5、可选地，所述充电件与所述穿孔的侧壁间隔设置。

6、可选地，所述穿孔的周缘设置有固定台，所述密封件设有与所述固定台相适配的凹槽，所述固定台与所述凹槽过盈配合。

7、可选地，所述密封件由硅胶材料制成。

8、可选地，所述密封件与所述控制板抵接的一侧设置有密封凸筋，所述密封凸筋围设于所述密封空腔的周缘。

9、可选地，所述底盖开设有进气孔，所述气溶胶产生装置还包括与所述底盖滑动连接的调气件，所述调气件用于调节所述进气孔的开口大小。

10、本实用新型技术方案提出一种气溶胶产生装置，所述气溶胶产生装置包括底盖、控制板、硅麦以及密封件，所述控制板与所述底盖固定相连，所述硅麦安装在所述控制板上，所述密封件安装在所述控制板与所述底盖之间，所述硅麦面向所述密封件设置，其中，所述密封件与所述控制板紧密地接，所述密封件开设有密封空腔，所述硅麦收纳于所述密封空腔内，所述底盖开设有穿孔，所述穿孔与所述密封空腔相连通。通过设置密封件与控制板相连接，并用密封空腔罩盖硅麦，在该密封空腔的作用下，在闭合穿孔时密封空腔内没有气流流通，维持密封空腔内的气压稳定，保障硅麦不会轻易被触发，避免气溶胶产生装置在运输过程中出现误触发的现象。

技术特征：

1.一种气溶胶产生装置，其特征在于，所述气溶胶产生装置包括底盖、控制板、硅麦以及密封件，所述控制板与所述底盖固定相连，所述硅麦安装在所述控制板上，所述密封件安装在所述控制板与所述底盖之间，所述硅麦面向所述密封件设置，其中，所述密封件与所述控制板紧密抵接，所述密封件开设有密封空腔，所述硅麦收纳于所述密封空腔内，所述底盖开设有穿孔，所述穿孔与所述密封空腔相连通。

2.如权利要求1所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述硅麦与所述密封空腔的侧壁之间的距离在1mm-5mm的范围内。

3.如权利要求1所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述气溶胶产生装置还包括充电件，所述充电件安装在该穿孔内。

4.如权利要求3所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述充电件与所述穿孔的侧壁间隔设置。

5.如权利要求1-4任一项所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述穿孔的周缘设置有固定台，所述密封件设有与所述固定台相适配的凹槽，所述固定台与所述凹槽过盈配合。

6.如权利要求1所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述密封件由硅胶材料制成。

7.如权利要求1所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述密封件与所述控制板抵接的一侧设置有密封凸筋，所述密封凸筋围设于所述密封空腔的周缘。

8.如权利要求1所述的气溶胶产生装置，其特征在于，所述底盖开设有进气孔，所述气溶胶产生装置还包括与所述底盖滑动连接的调气件，所述调气件用于调节所述进气孔的开口大小。

技术总结
本技术公开一种气溶胶产生装置，所述气溶胶产生装置包括底盖、控制板、硅麦以及密封件，所述控制板与所述底盖固定相连，所述硅麦安装在所述控制板上，所述密封件安装在所述控制板与所述底盖之间，所述硅麦面向所述密封件设置，其中，所述密封件与所述控制板紧密抵接，所述密封件开设有密封空腔，所述硅麦收纳于所述密封空腔内，所述底盖开设有穿孔，所述穿孔与所述密封空腔相连通。在本技术实施例中，通过设置密封件与控制板紧密连接，并在密封件上设置密封空腔罩盖硅麦，在该密封空腔的作用下，在对密封空腔进行密封时便于维持该密封空腔内气压的稳定，避免气溶胶产生装置出现误触发的情况。

技术研发人员：陈文,欧阳俊伟,高旭
受保护的技术使用者：深圳市艾维普思科技有限公司
技术研发日：20230731
技术公布日：2024/4/7