加热结构及包括加热结构的气溶胶生成装置的制作方法

本公开涉及一种利用表面等离子体共振(surface plasmon resonance，spr)而产生热量的加热结构，例如，包括所述加热结构的气溶胶生成装置。

背景技术：

1、目前，正在开发一种通过产生热量来加热对象的技术。例如，可以通过向电阻元件供电来产生热量。作为另一示例，可以通过线圈和基座之间的电磁耦合来产生热量。上述描述是发明人在开发本公开的过程中掌握或习得的，不应被理解为必须是本申请的申请日前公开的一般公知技术。

技术实现思路

1、技术问题

2、本公开的一方面可提供一种利用表面等离子体共振(spr)产生热量的加热结构及包括加热结构的气溶胶生成装置。

3、解决问题的技术方案

4、一种加热结构可以包括基板；以及金属棱柱，该金属棱柱配置成在所述基板上形成至少一个孔并通过表面等离子体共振(spr)产生热量。

5、所述至少一个孔可以被所述基板和所述金属棱柱围绕。

6、所述金属棱柱可以形成彼此分隔开的多个孔。

7、所述至少一个孔可以具有大致圆形或椭圆形的形状。

8、所述至少一个孔可以具有约290纳米(nm)至约360nm的直径。

9、所述第一金属棱柱可以具有面向所述基板的第一基面、与所述第一基面相反的第二基面，以及位于所述第一基面和所述第二基面之间以限定出所述至少一个孔的多个侧面。

10、所述第一基面和所述第二基面之间的距离可以在大于0nm且小于等于约10nm的范围内。

11、所述金属棱柱可以包括金属颗粒，所述金属颗粒配置成通过波长范围为约380nm至约780nm的光而共振。

12、所述基板的导热率可以在大于0瓦每米-开尔文(w/mk)且小于等于约45w/mk的范围内。

13、一种气溶胶生成装置可以包括：光源；以及加热结构，该加热结构配置成接收来自所述光源的光。其中，加热结构可以包括：基板；以及金属棱柱，所述金属棱柱配置成在所述基板上形成至少一个孔，并通过表面等离子体共振(spr)产生热量。

14、一种加热结构可以包括：基板，该基板的导热率在大于0w/mk且小于等于约45w/mk的范围内；以及金属棱柱，该金属棱柱设置在所述基板上，并配置成通过表面等离子体共振产生热量。

15、所述基板可以包括玻璃。

16、一种对通过表面等离子体共振而产生热量的加热结构进行制造的方法，该方法可以包括：将多个珠状部施用在基板上；减小所述多个珠状部的尺寸；将多个金属颗粒沉积在所述基板和/或所述多个珠状部上；以及移除所述多个珠状部。

17、减小所述多个珠状部的尺寸可以包括：使用反应性离子蚀刻(rie)来蚀刻所述多个珠状部。

18、减小所述多个珠状部的尺寸可以包括：将所述珠状部的直径减小至约290nm至约360nm的范围。

19、发明的有益效果

20、根据一实施例，当加热结构被应用于加热对象时，可以局部加热对象或对多个对象中的一个或多个对象的至少一部分进行加热。根据一实施例，可以在相对较低的能量下将对象加热至预定温度范围。换言之，可以改善加热结构的热效率。根据一实施例的加热结构以及包括加热结构的气溶胶生成装置的效果并不受限于上述效果，未言及的其他效果将通过下面的记载由本领域普通技术人员明确理解。

1.一种加热结构，所述加热结构包括：

2.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

3.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

4.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

5.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

6.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

7.根据权利要求6所述的加热结构，其中，

8.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

9.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

10.一种气溶胶生成装置，所述气溶胶生成装置包括：

11.一种加热结构，所述加热结构包括：

12.根据权利要求11所述的加热结构，其中，

13.一种对通过表面等离子体共振(spr)而产生热量的加热结构进行制造的方法，所述方法包括：

14.根据权利要求13所述的方法，其中，

15.根据权利要求13所述的方法，其中，