专利名称：一种黄金首饰的制作方法
技术领域：
本实用新型属于贵金属首饰的制造领域，更具体的说，涉及一种黄金首饰。
背景技术：
现有技术中黄金首饰为了美观，经常在首饰的表面设置一些图案，所述图案可以为图形、文字或线条，而通常的做法为采用雕刻机进行刻画，由于刻画为去材料的一种加工方式，加工工具非常锋利，所以加工过的刻画面都是光亮的，无法做到砂面效果，不能很好地突出刻画出来的图案
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种黄金首饰，该黄金首饰上的图案具有砂面效果，可与首饰其它表面明显区分开来，但又非常光亮，更美观。本实用新型的技术方案为一种黄金首饰，包括首饰本体，所述首饰本体表面设有图案，所述图案由多个细小的、密集的点状凹坑阵列构成。优选的，所述凹坑为圆锥状凹坑。所述凹坑的反射面为圆锥面，由于圆锥面是一个具有固定斜率的较大面积斜面，可集中地向外反射光线，所以相比现有技术更光亮，更美观。优选的，所述凹坑为具有多个反射面的多棱锥状凹坑。由于凹坑具有多个反射面，且所述反射面的反射方向均不相同，所以更光亮一些。优选的，所述多棱锥状凹坑为正多棱锥面体。当所述多棱锥状凹坑为正多棱锥面体时，所有的反射面状况基本一致，光线反射也更均匀，图案的光亮度更高。优选的，所述多棱锥状凹坑至少有四个反射面，为了达到较好的反射效果，反射面还可以六个、八个等等。优选的，所述多棱锥状凹坑深度为0. 1-0. 5mm。优选的，所述多棱锥状凹坑的顶角大于90度小于150度。此时具有较佳的综合效果，即有砂面效果，充分突显图案，又能具有较佳的光亮度，这是因为如果凹坑又深又窄，会严重影响光线的射出，如果凹坑又浅又宽，会影响砂面效果，也会影响反射面积。优选的，所述相邻的点状凹坑部分相互重叠。由于凹坑是非常密集的，所以在加工过程中，有些相邻的点状凹坑可能会有部分面积相互重叠，但并不会明显影响最终效果。优选的，所述首饰本体为空心的薄壁产品，所述图案设置在首饰本体的薄壁上。本实用新型薄壁由于受力情况改善，所以更不容易变形。优选的，所述首饰本体为空心薄壁球形体。本实用新型技术方案的有益效果为区别于现有技术中采用雕刻机进行刻画去材料制作图案的方案，本实用新型黄金首饰的图案是利用专用的设备配合硬质针在首饰本体的表面进行击打，冲撞出点状凹坑，所述点状凹坑具有细小、密集的特点，通过阵列构成最终的图案，由于在制作图案过程中不去除材料，可以避免黄金材料的损耗，由于凹坑非常细小密集，所以具有砂面效果，能与首饰其它表面明显区分开来，但又由于凹坑具有反射面，可以反射光线，所以图案比较光亮，所以更美观。
图I是本实用新型所述黄金首饰实施例一的示意图；图2是图I中A处放大图；图3是本实用新型所述黄金首饰实施例二的示意图；图4是图3中B处放大图。其中1、首饰本体；2、图案；3、凹坑。
具体实施方式
本实用新型公开一种黄金首饰，作为本实用新型黄金首饰的实施例一，如图I和图2所示，包括首饰本体1，所述首饰本体I表面还设有图案2，所述图案2由多个细小的、密集的点状凹坑3阵列构成。本实用新型黄金首饰的图案是利用专用的设备配合硬质针在首饰本体I的表面进行击打，冲撞出点状凹坑3，所述点状凹坑3具有细小、密集的特点，通过阵列构成最终的图案2，由于在制作图案过程中不去除材料，可以避免黄金材料的损耗，由于凹坑3非常细小密集，所以具有砂面效果，能与首饰本体I其它表面明显区分开来，但又由于凹坑3具有反射面，可以反射光线，所以图案比较光亮，所以更美观。本实施例中，所述黄金首饰为实心产品，所述点状凹坑3为圆锥状凹坑。现有技术中黄金饰品的砂面一般由喷砂工艺制作，由于砂粒不规则，所以黄金饰品的砂面均为不规则的凹坑，反射光线方向分散不集中，即没有形成多个能引起人视觉影响的反射平面，所以给人的感觉是不够光亮，而本实用新型所述点状凹坑3的反射面为圆锥面，由于圆锥面是一个具有固定斜率的较大面积斜面，可集中地向外反射光线，所以相比现有技术更光亮，更美观。本实施例中，由于点状凹坑3是非常密集的，所以在加工过程中，有些相邻的点状凹坑3可能会有部分面积相互重叠，但并不会明显影响最终效果。作为本实用新型黄金首饰的实施例二，如图3和图4所示，与实施例一不同之处在于所述首饰本体I为空心的薄壁产品，更具体的为空心薄壁球形体，所述图案2设置在首饰本体I的薄壁上，所述点状凹坑3为多棱锥状凹坑，具有多个反射面，且所述反射面的反射方向均不相同，所以比实施例一中的图案更光亮一些，就像钻石首饰的切割面一样，在保证每个切割面都具有一定反射面积的条件下，切割面越多钻石就越璀璨。为了达到较好的反射效果，所述锥状凹坑应该至少有四个反射面；当所述多棱锥状凹坑为正多棱锥面体时，所有的反射面状况基本一致，光线反射也更均匀，图案的光亮度更高。由于本实施例中黄金首饰为空心薄壁球形体，球体内表面无法设置支撑，而且黄金质软，如果采用现有技术中的刻画方法来加工图案，很容易使薄壁受力变形甚至塌陷，而本实用新型采用专用设备和硬质针击打的方式来形成点状凹坑，薄壁受力集中，只需要很小冲击力就可以在黄金表面成型出凹坑，众所周知，在薄壁材料表面上击打出微小凹坑需要的力量要远远小于切除薄壁上的部分材料需要切削力，本实用新型薄壁由于受力情况改善，所以更不容易变形，当然也可以采用多次击打的方式来成型同一个凹坑，从而可以大大降低每次击打的力量。本实用新型为了让点状凹坑阵列而成的图案更光亮美观，本发明人通过多次实验验证，当锥状凹坑深度为0. 1-0. 5mm，所述锥状凹坑的顶角大于90度小于150度时具有较佳的综合效果，即有砂面效果，充分突显图案，又能具有较佳的光亮度，这是因为如果凹坑又深又窄，会严重影响光线的射出，如果凹坑又浅又宽，会影响砂面效 果，也会影响反射面积。以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种黄金首饰，包括首饰本体，所述首饰本体表面设有图案，其特征在于，所述图案由多个细小的、密集的点状凹坑阵列构成。
2.根据权利要求I所述的黄金首饰，其特征在于，所述凹坑为圆锥状凹坑。
3.根据权利要求I所述的黄金首饰，其特征在于，所述凹坑为具有多个反射面的多棱锥状凹坑。
4.根据权利要求3所述的黄金首饰，其特征在于，所述多棱锥状凹坑为正多棱锥面体。
5.根据权利要求4所述的黄金首饰，其特征在于，所述多棱锥状凹坑至少有四个反射面。
6.根据权利要求3所述的黄金首饰，其特征在于，所述多棱锥状凹坑深度为0.1-0. 5mm。
7.根据权利要求3所述的黄金首饰，其特征在于，所述多棱锥状凹坑的顶角大于90度小于150度。
8.根据权利要求I所述的黄金首饰，其特征在于，所述相邻的凹坑部分相互重叠。
9.根据权利要求I至8任一项所述的黄金首饰，其特征在于，所述首饰本体为空心的薄壁产品，所述图案设置在首饰本体的薄壁上。
10.根据权利要求9所述的黄金首饰，其特征在于，所述首饰本体为空心薄壁球形体。
专利摘要本实用新型属于贵金属首饰的制造领域，更具体的说，涉及一种黄金首饰，包括首饰本体，所述首饰本体表面设有图案，所述图案由多个细小的、密集的点状凹坑阵列构成。本实用新型黄金首饰的图案是利用专用的设备配合硬质针在首饰本体的表面进行击打，冲撞出点状凹坑，所述点状凹坑具有细小、密集的特点，通过阵列构成最终的图案，由于在制作图案过程中不去除材料，可以避免黄金材料的损耗，由于凹坑非常细小密集，所以具有砂面效果，能与首饰其它表面明显区分开来，但又由于凹坑具有反射面，可以反射光线，所以图案比较光亮，所以更美观。
文档编号A44C15/00GK202750855SQ20122035853
公开日2013年2月27日 申请日期2012年7月23日 优先权日2012年7月23日
发明者叶伟洪 申请人:深圳市百泰珠宝首饰有限公司