皮革与薄纱拼接的多孔面料服装的制作方法

文档序号:639398阅读:250来源:国知局
皮革与薄纱拼接的多孔面料服装的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装。包括服装本体(1),服装本体(1)的前身与后身均为皮革(2)与薄纱(3)拼接而成,所述皮革(2)与所述薄纱(3)呈不规则图形;所述服装本体(1)所采用的面料包括多孔面料制成的基材,多孔面料还包括底层及信息层,底层直接形成于基材上,信息层设置于底层上,信息层包括机器可识别的图案,机器可识别的图案由多个标识单元排列而成,底层是一个致密膜,底层的孔隙尺寸小于标识单元的尺寸。本发明增加了服装的层次感,丰富了服装的样式。本发明通过在信息层及多孔面料之间增加一层致密膜结构的底层,从而能够避免信息层的标识单元印制不全的问题。
【专利说明】皮革与薄纱拼接的多孔面料服装
(—)

【技术领域】
[0001]本发明涉及一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装。
(二)

【背景技术】
[0002]随着社会的发展,人们对服装的要求不再是单一的保暖蔽体,对服装的美观要求逐渐增强,爱美之心人皆有之,一套适合的服装不仅可以使穿着者心情愉悦,还可以美化生活装点社会,普通的服装缺乏时尚感、对比感。另外,存在信息层的标识单元印制不全的问题。
(三)


【发明内容】

[0003]本发明的目的在于克服上述不足,提供一种时尚的皮革与薄纱拼接的多孔面料服装。
[0004]本发明的目的是这样实现的:一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装,包括服装本体,其特点是:所述服装本体的前身与后身均为皮革与薄纱拼接而成,所述皮革与所述薄纱呈不规则图形;所述服装本体所采用的面料包括多孔面料制成的基材,多孔面料还包括底层及信息层,底层直接形成于基材上,信息层设置于底层上,信息层包括机器可识别的图案,机器可识别的图案由多个标识单元排列而成,底层是一个致密膜,底层的孔隙尺寸小于标识单元的尺寸。
[0005]本发明的有益效果是:
[0006]1、本发明一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装,其前身与后身均为皮革与薄纱拼接而成,所述皮革与所述薄纱呈不规则图形。通过不规则的图形,展现出服装的凌乱美,冲击人们的视眼,通过皮革与薄纱的对比,展现出服装的矛盾美,增加了服装的时尚性,增加了服装的层次感,丰富了服装的样式。
[0007]2、本发明通过在信息层及多孔面料之间增加一层致密膜结构的底层,从而能够避免信息层的标识单元印制不全的问题。
(四)

【专利附图】

【附图说明】
[0008]图1为本发明一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装的结构示意图。
[0009]图中:
[0010]服装本体I
[0011]皮革2
[0012]薄纱3。
(五)

【具体实施方式】
[0013]参见图1,本发明一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装,包括服装本体1,所述服装本体I的前身与后身均为皮革2与薄纱3拼接而成,所述皮革2与所述薄纱3呈不规则图形。
[0014]所述服装本体I所采用的面料包括多孔面料制成的基材,多孔面料还包括底层及信息层,底层直接形成于基材上,信息层设置于底层上,信息层包括机器可识别的图案,机器可识别的图案由多个标识单元排列而成,底层是一个致密膜,底层的孔隙尺寸小于标识单元的尺寸。
【权利要求】
1.一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装,包括服装本体(1),其特点是:所述服装本体(1)的前身与后身均为皮革(2)与薄纱(3)拼接而成,所述皮革(2)与所述薄纱(3)呈不规则图形;所述服装本体(1)所采用的面料包括多孔面料制成的基材,多孔面料还包括底层及信息层,底层直接形成于基材上,信息层设置于底层上,信息层包括机器可识别的图案,机器可识别的图案由多个标识单元排列而成,底层是一个致密膜,底层的孔隙尺寸小于标识单元的尺寸。
【文档编号】A41D1/00GK104432608SQ201310436197
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2013年9月15日 优先权日:2013年9月15日
【发明者】胡士勇 申请人:胡士勇
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