一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫的制作方法

文档序号:37793698发布日期:2024-04-30 17:03阅读:10来源:国知局
一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫的制作方法

本技术涉及鞋垫,具体为一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫。


背景技术:

1、中国专利号为201721197892.4公开的一种矫正鞋垫,从上至下依次包括鞋垫表面层、舒宝棉层、软木层和eva层;还包括舒宝棉和eva层之间的乳胶垫。原设计的鞋垫底部圆弧形状,原设计的鞋垫足弓支撑硬度75度,对于后跟外翻性的重度的扁平足支撑力度不够。另外鞋垫偏窄,不适合足弓重度塌陷的偏宽的脚型使用。

2、穿戴普通的足弓鞋垫,其形体和硬度均无法对重度扁平及足跟骨外翻进行同时支撑和矫正,因此我们提出了一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫。


技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,解决了穿戴普通的足弓鞋垫,其形体和硬度均无法对重度扁平及足跟骨外翻进行同时支撑和矫正的问题。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,包括鞋垫面层,所述鞋垫面层的上表面位于中腰外侧向倾斜上升,形成足弓支撑层,足弓支撑层用于适应足弓处的骨骼形态,对扁平足的足弓提供支撑,所述鞋垫面层的下表面设置有缓冲垫,且缓冲垫包括缓冲层、底平面层和斜面层,底平面层和斜面层均设置在缓冲层的下方,底平面层位于鞋跟处。

5、优选的,所述缓冲层固定设置在鞋垫面层的下表面。

6、优选的,所述底平面层和斜面层与缓冲层之间设置有弧形面。

7、优选的,所述鞋垫面层和缓冲垫的支撑硬度设计为85度。

8、优选的,所述鞋垫面层和缓冲垫均加宽设置。

9、本实用新型公开了一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,其具备的有益效果如下:该重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,通过设置的足弓支撑层,因足弓支撑层由鞋垫面层的上表面位于中腰外侧向倾斜上升而形成,足弓支撑层用于适应足弓处的骨骼形态,在扁平足的足弓放置在鞋垫面层上时,足弓支撑层可以对扁平足的足弓提供支撑,通过设置的缓冲垫,其中缓冲层起到有效的支持的作用,同时配合在设置在鞋跟处的底平面层,鞋垫后跟底部将传统的圆弧状进一步改成平面,于鞋垫后跟形成直角设计,可以对足跟骨内侧有力支撑,同时对重度扁平足、僵硬性扁平足、副舟骨突出及足跟骨外翻进行矫正。



技术特征:

1.一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,包括鞋垫面层(1),其特征在于:所述鞋垫面层(1)的上表面位于中腰外侧向倾斜上升,形成足弓支撑层(101),足弓支撑层(101)用于适应足弓处的骨骼形态,对扁平足的足弓提供支撑,所述鞋垫面层(1)的下表面设置有缓冲垫(2),且缓冲垫(2)包括缓冲层(201)、底平面层(202)和斜面层(203),底平面层(202)和斜面层(203)均设置在缓冲层(201)的下方,底平面层(202)位于鞋跟处;

2.根据权利要求1所述的一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,其特征在于:所述缓冲层(201)固定设置在鞋垫面层(1)的下表面。

3.根据权利要求1所述的一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,其特征在于:所述底平面层(202)和斜面层(203)与缓冲层(201)之间设置有弧形面(204)。


技术总结
本技术公开一种重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,涉及鞋垫领域。该重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,包括鞋垫面层,所述鞋垫面层的上表面位于中腰外侧向倾斜上升,形成足弓支撑层,足弓支撑层用于适应足弓处的骨骼形态,对扁平足的足弓提供支撑,所述鞋垫面层的下表面设置有缓冲垫,且缓冲垫包括缓冲层、底平面层和斜面层,底平面层和斜面层均设置在缓冲层的下方,底平面层位于鞋跟处。该重度扁平足、足跟外翻矫正鞋垫,足弓支撑层可以对扁平足的足弓提供支撑,通过在鞋跟处的底平面层,可以对足跟骨内侧有力支撑,同时对重度扁平足、僵硬性扁平足、副舟骨突出及足跟骨外翻进行矫正。

技术研发人员:鲁晓霞
受保护的技术使用者:北京健步达科技有限公司
技术研发日:20230725
技术公布日:2024/4/29
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